輝光離子氮化爐工作原理，離子滲氮法的原理

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離子滲氮向工件表面滲入的氮原子，不是像一般氣體那樣由氨氣分解而產(chǎn)生的，而是被電場加速的粒子碰撞含氮氣體分子和原子而形成的離子在工件表面吸附、富集而形成的活性很高的氮原子。

離子滲氮時，工件放在爐內的陰極盤上，接上電源抽真空，當爐內壓力降到6Pa左右時，充入氨氣，使爐內壓保持在1.3×10~1.3×10Pa范圍內。由于爐內壓力低，隨后又經(jīng)過加熱作用，進入爐內的氨氣將發(fā)生分解。爐內反應所得的氣體體積分數(shù)為25%N2和75%H2的低壓環(huán)境。

當在陰極（工件）與陽極（爐體）之間加上高壓直流電時，爐內出現(xiàn)輝光放電現(xiàn)象。這時，爐內的低壓氣體在高壓電廠的作用下發(fā)生電離，電離成帶正電荷的N、H離子和帶負電荷的電子。輝光放電形成的正離子，在高壓電場作用下做定向移動，即以極高的速度轟擊陰極（工件）表面，并在工件表面發(fā)生一系列的物理化學現(xiàn)象，形成滲氮層。其流程主要包括能量轉換、產(chǎn)生陰極濺射效應、形成高密度的位錯層、氮離子奪得電子形成活性氮原子、凝附作用和氫離子的化學作用。

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